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绿碳化硅微粉抛光磨料的特点

发布时间:2026-09-14 14:40:39 作者:杨经理 13526810975 来源:www.scsiliconcarbide.com 人气:
  绿碳化硅微粉SiC含量很高,六方晶体,莫氏硬度大,纯度高、锋利、自锐性强,主打硬脆材料精密研磨抛光,和黑碳化硅相比杂质更低、切削刃更锐利。
 
  绿碳化硅微粉抛光磨料的特点:
 
  1、硬度高,切削去除能力强
 
  绿碳化硅微粉显微硬度3000~3300kg/mm²,颗粒自带多棱角,对硬质合金、光学玻璃、陶瓷、蓝宝石、硅晶体等高硬度脆性材料去除效率高,可快速消除刀纹、划痕、表面缺陷。
 
  2、自锐性优异,抛光持续稳定
 
  晶体脆性适中,抛光过程中磨粒钝化部位会自发微破碎,持续生成全新锋利切削刃,不会轻易钝化糊刀,长时间加工抛光效率稳定,不易堵屑。

绿碳化硅微粉
 
  3、纯度高,杂质少,不易造成工件污染
 
  冶炼添加食盐提纯,铁、游离碳等杂质含量很低,抛光后很少出现铁污染,适合光学、半导体、精密陶瓷这类对表面洁净度要求高的工件;黑碳化硅含有铁杂质,精密抛光不适用。
 
  4、导热好、热膨胀低,减少热损伤
 
  导热性能远优于刚玉磨料,抛光摩擦热可以快速导出;热膨胀系数小,加工薄脆工件(光学镜片、硅片),不容易产生热应力、崩边、烧伤、雾斑缺陷。
 
  5、化学惰性强,耐酸碱
 
  常温下耐酸、耐碱,可搭配水性、油性抛光液使用,不与大多数工件发生化学反应,抛光后易清洗,残留少。
 
  6、粒度分级精度高,抛光一致性好
 
  可分级从粗研磨到亚微米精抛全系列微粉(W系列),粒度分布窄,颗粒大小均匀,抛光成品表面粗糙度均匀,可控性强,不容易产生不规则深划痕。
 
  7、适用材料针对性强
 
  适合硬脆非金属、硬质合金;不适合大面积软质金属(铝、铜),容易嵌入工件表面微孔。

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